Toshiba и NEC разработают 45-нм процесс производства чипов

Два электронных гиганта Японии, компании Toshiba и NEC, сообщили о заключении соглашения по совместной разработке 45-нанометрового процесса производства интегральных микросхем следующего поколения.

В рамках этого сотрудничества специалисты NEC примут активное участие в уже ведущихся сотрудниками компаний Toshiba и Sony исследованиях в центре микроэлектроники Toshiba Advanced Microelectronics Center, расположенном в городе Иокогама. Таким образом, три крупнейших японских производителя надеются догнать и, быть может, даже перегнать двух бесспорных мировых лидеров в сфере производства микрочипов - Intel и Samsung.

Однако стоит также отметить, что NEC и Toshiba придется пойти на некоторые обоюдные уступки, ибо до сих пор они имели разные взгляды на методы создания, например, интегрированной памяти. В частности, Toshiba использует технологию Trench-capacitor (которая считается более экономичной за счет меньшего размера микросхем, изготовленных с ее использованием). Компания NEC, в свою очередь, отдает предпочтение технологии Stacked-capacitor.

Источник новости: PC Pro