Наука и технологии
28 ноября 2002 в 13:13

В 2003 году оперативная память будет выпускаться по новой технологии

В начале 2003 года тайваньские производители оперативной памяти планируют перейти на более современный технологический процесс. Четыре крупнейших тайваньских компании Powerchip Semiconductor (PSC), Nanya Technology, Winbond Electronics и ProMOS Technologies объявили о планах начать в будущем году выпуск микросхем с размерами транзисторов от 0,11 до 0,13 мкм.

Компания Powerchip Semiconductor, которая в настоящее время использует 0,15-микронный технологический процесс, намерена перейти на 0,13-микронную технологию уже в декабре 2002 года. Массовое производство по этой технологии начнется в первом квартале 2003 года, а перевод большей части своих линий на использование этого технологического процесса руководство PSC планирует осуществить во втором квартале 2003 года. Представители компании утверждают, что для производства по 0,13-микронной технологии будут использоваться те же фотошаблоны, что и для выпуска микросхем по 0,15-микронной технологии, что позволит в кратчайшие сроки после смены технологического процесса добиться прибыльности производства. Кроме того, компания PSC намерена уже в четвертом квартале 2003 года сделать 0,12-микронную технологию своим основным технологическим процессом, а в четвертом квартале 2004 года - перейти на 0,11 микронную технологию.

Nanya Technology приобрела лицензию на 0,11-микронную технологию у компании IBM. Опытное производство на основе этой технологии начнется в первом квартале 2003 года, а начало серийного выпуска микросхем по этому технологическому процессу запланировано на третий квартал 2003 года. Компания Nanya также планирует начать опытное производство чипов по 0,12-микронной технологии собственной разработки, однако в случае успешного внедрения 0,11-микронного технологического процесса, серийное производство чипов с транзисторами размером 12 мкм начинаться не будет.

В первом квартале 2003 года около 70 процентов всей продукции Winbond Electronics будет производиться по 0,13-микронной технологии, а во втором квартале будущего года начнется опытное производство чипов по 0,11-микронной технологии. Компания ProMOS Technologies также объявила о намерении в ближайшее время перейти с 0,14-микронной на 0,13- и 0,12-микронные технологии. Опытное производство на основе новых технологических процессов начнется в первом квартале 2003 года.

Источник новости: DigiTimes