MII представила импринт-сканер для 32-техпроцеса

В рамках конференции, посвященной последним достижениям в области литографии, проводимой SPIE 24–29 февраля 2008 года в г. Сан-Хосе (США), известный производитель оборудования для полупроводниковой отрасли Molecular Imprints Inc. (MII) представила вниманию общественности новый импринт-сканер Imprio 300. Сканер предназначен для коммерческого производства полупроводниковых микросхем согласно 32-нм проектным нормам.

Напомним, что в октябре 2007 года японская Toshiba Semiconductor уже высказывалась за использование импринт-литографии для производства КМОП-микросхем согласно нормам 22-нм технологического процесса. Тогда с помощью сканера MII Imprio 250, специалисты из японской компании сумели нанести на кремниевую подложку рисунок с плотно расположенными 24-нм элементами и 18-нм изолированные элементы.

Согласно заявлению представителей компании, производительность Imprio 300 по сравнению с его предшественником Imprio 250 увеличена в 250 раз. Потенциал сканера подчеркивается заявлением производителя о способности наносить рисунок, состоящий из элементов "размером менее 10 нм". Поставки Imprio 300 начнутся во второй половине 2008 года.

Источник новости: 3dnews.ru