Motorola разработала средства для создания сверхмалых чипов

Компания Motorola заявила о завершении разработки технологии, которая позволит массово производить компьютерные микросхемы с повышенной плотностью. Суть технологии – «фотомаска», материал, который наносится на кремниевую подложку и позволяет создать элементы интегральной схемы шириной менее 100 нанометров. Для сравнения: толщина человеческого волоса – 10000 нанометров, а стандартом для передовых технологических процессов до сих пор была ширина элемента в 157 нанометров.

Производиться микросхемы будут методом фотолитографии, когда световой луч выжигает излишки кремния и таким образом создает на подложке интегральную схему.

Технология фотомасок, созданная Motorola, используется в методе ультрафиолетовой фотолитографии, когда более высокая точность достигается при помощи лазера с меньшей длиной волны. Используя эту технологию, потенциально возможно создавать элементы ИС шириной всего 13 нанометров.

Источник новости: Reuters