Исследователи IBM показали: 32-нм – еще не предел для микрочипов

Оказывается, используя современные технологии производства микрочипов и микропроцессоров, возможно создавать устройства, которые в три раза миниатюрнее текущих 90-нм чипов. Ранее считалось, что на современном оборудовании технически невозможно изготовлять микросхемы с проектной нормой менее 32-нм, однако исследователи компании IBM создали 29,9-нм структуру и таким образом опровергли устоявшееся предположение. Для создания подобной структуры использовалась "глубокая" ультрафиолетовая литография – технология, позволяющая "рисовать" будущие элементы схемы на кремниевой подложке или пластине.

В течение десятилетий инженеры использовали новые технологии производства микроэлектронных компонентов, позволяющих увеличить количество транзисторов на единице площади кремниевой пластины, таким образом, увеличивая функциональность и производительность чипов. Достижение сотрудников IBM, а именно – использование нового литографического процесса, позволяет увеличить на несколько лет представленный путь развития технологий производства микроэлектронных схем.

Источник новости: physorg.com