ASML и Imec объединились для создания чипов по нормам менее 2 нм

В рамках сотрудничества Imec впервые получит доступ к самым передовым литографическим установкам High-NA EUV с апертурой 0,55.

Эта технология считается ключевой для производства чипов по нормам менее 2 нм, но доступ к ней был ограничен — ранее исследования проводились только в лабораториях ASML.

Теперь новейшее оборудование появится в Imec, что ускорит разработку будущих полупроводниковых технологий.

Стоимость одного High-NA EUV-сканера достигает $370 млн, что делает его доступным лишь для крупнейших игроков индустрии.

Кроме литографии, ASML и Imec также займутся исследованиями в области DRAM, кремниевой фотоники и упаковки чипов, продвигая передовые технологии в глобальной индустрии полупроводников.