Сегодня Intel объявила о двух крупных достижениях в области разработки EUV (Extreme Ultraviolet) литографии, технологии для производства микропроцессоров будущего. Компания создала первое в мире коммерческое оборудование для EUV литографии и запустила пилотную EUV линию, отметив тем самым выход этой технологии из стадии разработки.
Размещая все больше и больше транзисторов на чипе, производителям требуется печатать все мельче и мельче. А потому как современная технология литографической печати микросхем должна исчерпать себя в течении нескольких лет, ведется разработка EUV, которую Intel планирует запустить в производство в 2009.
Устройство для печати по новой технологии МЕТ (Micro Exposure Tool) и пилотная EUV позволят Intel печатать микросхемы с элементами размером до 30 нанометров (нм), что должно предшествовать 15 нм разрешению, которое и в дальнейшем будет внедрено на производстве. Для сравнения, наивысшее разрешение, достижимое сегодня на оборудовании Intel, составляет всего 50 нм.
Подобно тому, как художнику нужны тонкие кисти для тонких линий, полупроводниковая промышленность также нуждается во все более коротких длинах волн для печати элементов микросхем. В EUV литографии используется излучение с длиной волны 13,5 нм (сейчас используется 193 нм). Так что эта технология, несмотря на некоторые пока не разрешимые проблемы, станет жизненно важной для производства микросхем в будущем.
Источник новости: CDRInfo