В понедельник голландская компания ASML, занимающаяся разработкой перспективных технологий оптической литографии, использующихся в производстве всех современных чипов, объявила о получении важного заказа от корпорации Intel. Процессорный гигант решил приобрести у ASML пилотное литографическое оборудование, использующее вакуумное ультрафиолетовое излучение (ВУФ).
Использование вакуумного УФ-излучения (extreme ultraviolet - EUV) позволяет избавиться от ограничений традиционной технологии оптической литографии, которая находится уже на пределе своих возможностей. ВУФ-лучи имеют длину волны 13,5 нм, что в 10 раз меньше, чем у излучения, используемого в литографии сегодня. Это позволяет уменьшить размеры отдельных элементов микросхемы, по меньшей мере, до 45 нм. Напомним, что в настоящее время в полупроводниковой промышленности реализована 0,13-микронная технология, то есть размер элементов схемы составляет около 130 нм.
Заказанное Intel оборудование будет рассчитано на работу с кремниевыми пластинами диаметром 300 мм по технологической норме 45 нм, а его поставка намечена на вторую половину 2005 г. Конструкция системы ВУФ-литографии будет базироваться на уже используемой платформе TWINSCAN, однако из-за необходимости использования вакуума многие системы, в том числе, оптическая, будут самым серьезным образом переработаны.
Источник новости: AMSL