Опубликовано 30 августа 2002, 09:47

Первые результаты деятельности альянса STMicro, Motorola и Philips

Одни из крупнейших мировых производителей интегральных микросхем - тайваньская компания STMicroelectronics, американская Motorola и голландский концерн Philips - объявили о создании платформы для разработки чипов с использованием технологического КПОМ-процесса 90 нм, то есть с размерами элементов в одну стомиллионную долю метра. Меньший размер элементов позволит удешевить производство, повысить скорость работы и уменьшить тепловыделение микросхем.

Эта разработка - лишь начало рассчитанной на 5 лет программы сотрудничества трех гигантов, о котором было заявлено в апреле 2002 г. Сердцем проекта стал научно-исследовательский центр "Crolles2" во французском городе Кролль, куда все участники направляли своих инженеров и инвестировали средства.

Платформа включает в себя две библиотеки стандартных элементов, одна из которых оптимизирована по производительности, другая - по плотности. Разработанные на ней чипы могут использовать напряжения 1,8 В, 2,5 В, 3,3 В и встроенную статическую память 6T-SRAM с плотностью записи до 1,2 мм2 на Мбит или динамическую DRAM c плотностью до 0,5 мм2 на Мбит. Как считают создатели, платформа будет востребована разработчиками "систем-на-чипе" (SoC) для устройств бытовой электроники и телекоммуникаций, в том числе и беспроводных сетей.

Первые устройства, созданные с помощью новой платформы, должны появиться на рынке к концу этого года. В ходе дальнейшей совместной работы участники альянса собираются перейти на технологический процесс 32 нм.

Источник новости: STMicroelectronics