Учёные создали первый российский прибор для производства микрочипов с возможностью обработки пластин до 200 нм Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗНТЦ) представил уникальную для страны фотолитографическую установку с разрешением 350 нанометров, разработанную для выпуска микросхем. Новинка успешно прошла проверку государственной комиссией, в которую вошли эксперты из ведущих организаций микроэлектронной отрасли. В ЗНТЦ подчеркнули, что эта установка стала результатом сотрудничества с белорусским предприятием «Планар», известным своими достижениями в области литографии. Одной из главных особенностей установки стало использование твердотельного лазера, заменившего ртутные лампы. Это новшество делает устройство более мощным, энергоэффективным и долговечным. Также разработка получила улучшенные характеристики: увеличенное рабочее поле, до 22 на 22 мм, и поддержку пластин диаметром до 200 мм, что значительно расширяет её возможности для применения в микроэлектронике. В данный момент ЗНТЦ активно работает над адаптацией оборудования под нужды конкретных клиентов и готовится к поставкам первых установок. Также в центре ведутся испытания и доработка процессов на специализированной площадке, что позволит минимизировать влияние на текущие производственные линии и ускорить внедрение новых технологий. В будущем ЗНТЦ планирует разработать установку с разрешением 130 нанометров, которую намерены завершить к 2026 году.