В России1 мин.
В России представили проект многолучевого литографа для выпуска микросхем
Первый образец планируют создать через три года
© Ferra.ru
В Российские специалисты представили проект многолучевого электронного литографа для выпуска современных микросхем. Разработка ведется при поддержке Национальной технологической инициативы. Основой установки стал мультикатод, который одновременно формирует множество независимых электронных лучей вместо одного, пишут «Известия».
По расчетам разработчиков, такое решение позволит сократить время экспонирования кремниевой пластины с полутора-двух недель до 5−7 минут. Это примерно в 3 тыс. раз быстрее традиционных однолучевых систем. Технология мультикатода уже создана и успешно прошла практические испытания.
В отличие от ряда зарубежных решений, где один луч разделяется системой зеркал и затворов, российская разработка использует независимые источники электронов на общей подложке. Первый опытный образец планируют изготовить примерно через три года. Технология рассчитана на производство микросхем по нормам от 350 нм до нескольких нанометров.
Источник:Известия